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集成電路用正膠顯影液-顯影液含量測定

更新日期:2018-05-15   瀏覽量:1225


SJ/T 11508-2015 集成電路用正膠顯影液

范圍
本標準規(guī)定了集成電路用正膠顯影液的術(shù)語、性狀、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則和包裝、標志、儲存、運輸。
本標準適用于集成電路用正膠顯影液,以下簡稱正膠顯影液。
本標準不涉及使用安全性問題。本標準的使用人應負責建立適當?shù)陌踩】禇l款及使用范圍的限制。

術(shù)語
超純硝酸  ultrapure nitric acid
金屬離子含量不大于1μg/L的硝酸。

性狀和技術(shù)要求
性狀
本試劑為無色透明有剌激性氨昧的堿性液體,為四甲基氫氧化銨的水溶液,四甲基氫氧化銨含量允許相對偏差為±1.0%。

技術(shù)要求
正膠顯影液技術(shù)要求應符合表1的規(guī)定:






試驗方法
顯影液含量測定
試劑
鹽酸標準滴定溶液: c(HCl)=0.1mol/L。
儀器和設備
自動電位滴定儀: 配酸堿滴定電極。
測定步驟
稱取適量樣品于滴定杯中,至0.0001g,加入40mL純水,按照自動電位滴定儀操作規(guī)程測定顯影液含量。
兩次平行測定結(jié)果相對偏差不大于0.5%,取其算術(shù)平均值為測定結(jié)果。


京都電子KEM 自動電位滴定儀 AT-710S

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